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國產EUV光刻機的開發依舊是任重而道遠　文：陳思靜

國產EUV光刻機的開發依舊是任重而道遠　文：陳思靜

華為mate60系列的發售說明國家已經跑通了國內的半導體產業鏈，有消息稱23年底，上海微電子的國產28納米的DUV光刻機即將完成全面驗證實現商用。到時中國能保證7納米以上的晶片自給…
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