近期，網傳清華打破了荷蘭AMSL光刻機的技術路線，另闢蹊徑不做傳統光刻機，大膽創新改做光刻廠，用大型電子加速器來雕刻國產晶片。中國已經實現了彎道超車，荷蘭AMSL公司已經急死了，中國即將突破美國半導體封鎖。聽起來很符合中國集中資源辦大事、要遙遙領先的風格。但希望各位冷靜些，EUV光刻機作為21世紀的工業明珠，荷蘭AMSL集全球產業之力，都花了足足十五年研究成功。而中國想使用電子加速器雕刻晶片這碼事，用上電子加速器製造的晶片至少還要等個三五年，目前只是剛起頭而已。
瘋傳的清華的SSMB-EUV方案，實際上是想用一種不同的思路，研究光刻機中發射光的EUV光源——極紫外光，實現在光源技術的彎道超車，是專門研究EUV光源的科研項目。不是光刻機、更不是光刻廠，只是EUV光刻機其中的一個核心部件。
就像俠客沒刀不能禦敵，光刻機沒光雕不了晶片。這把光刀是用到新型電子加速器，是佔地面積大、需求配套設施多、建設成本超高的巨型發光設施，是一把巨型光刀。也是網友們認為不做光刻機，改做光刻廠的由來。
而目前，清華研究的這把刀，今年3月選址在雄安新區才剛剛開始建設。廠房設施都沒建好，又何談光刻廠？所以清華用電子加速器做光刀的方案，最大意義是為中國研究光刻機光源提供一種顛覆性的、未來前景好的EUV光源可能性。
但它絕對不會比哈工大研究的DPP-EUV光源方案和長春光機的LPP-EUV光源方案更容易突破、更快速實現商用。即使清華的SSMB方案在理論上比DPP和LPP方案更加先進、功率更強、光源更純淨、擴展性更高，甚至有望製造1納米晶片。但收益越大、風險都也就越大，SSMB作為其中最鋒利的一把光刀，也是最難打造的寶刀，沒有人保證能研究成功。
正所謂好馬配好鞍，好酒配好刀。就算清華成功將電子加速器變成光刻廠，也只是俠客手上有把絕世寶刀，但想稱霸武林還需要頂級的功法、內力、法寶和靈丹妙藥的輔佐。換成光刻機上就是要光刻膠、物鏡系統、雙工作臺、顯影設備等配套技術都需要突破，達到領先水準，才做得出稱霸全球的國產晶片。
誠然上面講到的許多技術，國家都在不斷取得技術突破，但距離國際先進水準都尚有差距，而真正領先國際只有中微半導體的介質刻蝕機技術。但對於在光刻機制裁中剛挺過3年的中國而言，我們的研發速度已經大大超出美國政客的預期。
華為mate60系列的發售說明國家已經跑通了國內的半導體產業鏈，有消息稱23年底，上海微電子的國產28納米的DUV光刻機即將完成全面驗證實現商用。到時中國能保證7納米以上的晶片自給能力，能滿足絕大多數晶片需求，在一定程度擺脫對美國光刻機的依賴。但接下來衝擊7納米以下，國產EUV光刻機的開發依舊是任重而道遠。
文：陳思靜
擊劍任俠 快意恩仇 浪蕩宦海 十載浮沉
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